ஐ.எஸ்.எஸ்.என்: 2168-9806

ஜர்னல் ஆஃப் பவுடர் மெட்டலர்ஜி & மைனிங்

திறந்த அணுகல்

எங்கள் குழு ஒவ்வொரு ஆண்டும் அமெரிக்கா, ஐரோப்பா மற்றும் ஆசியா முழுவதும் 1000 அறிவியல் சங்கங்களின் ஆதரவுடன் 3000+ உலகளாவிய மாநாட்டுத் தொடர் நிகழ்வுகளை ஏற்பாடு செய்து 700+ திறந்த அணுகல் இதழ்களை வெளியிடுகிறது, இதில் 50000 க்கும் மேற்பட்ட தலைசிறந்த ஆளுமைகள், புகழ்பெற்ற விஞ்ஞானிகள் ஆசிரியர் குழு உறுப்பினர்களாக உள்ளனர்.

அதிக வாசகர்கள் மற்றும் மேற்கோள்களைப் பெறும் திறந்த அணுகல் இதழ்கள்

700 இதழ்கள் மற்றும் 15,000,000 வாசகர்கள் ஒவ்வொரு பத்திரிகையும் 25,000+ வாசகர்களைப் பெறுகிறது

குறியிடப்பட்டது
  • CAS மூல குறியீடு (CASSI)
  • குறியீட்டு கோப்பர்நிக்கஸ்
  • கூகுள் ஸ்காலர்
  • ஜே கேட் திறக்கவும்
  • ஜெனமிக்ஸ் ஜர்னல்சீக்
  • RefSeek
  • ஹம்டார்ட் பல்கலைக்கழகம்
  • EBSCO AZ
  • OCLC- WorldCat
  • பப்ளான்கள்
  • யூரோ பப்
இந்தப் பக்கத்தைப் பகிரவும்

சுருக்கம்

How to Protect Graphene inside Nanostructure, if we Use Chemical Deposition Techniques for Building Nanodevices!

Aile Tamm

Statement of the Problem: In the Laboratory of Thin Film Technology, Institute of Physics, University of Tartu, nanostructures containing graphene are synthesized and analysed, keeping in mind their potential applications in nanoelectronics, nanosensors, electrodes for energy storage and harvesting devices. Commonly, in the Laboratory, samples are prepared where the graphene is transferred, prior to the deposition of metal oxide overlayers, to the Si/SiO2 substrate. Thin layers of metal oxides, such as Al2 O3 , can then be grown by atomic layer deposition (ALD) on transferred graphene. According to the micro-Raman analysis carried out after the ALD of metal oxide, the G and 2D bands of graphene become slightly broadened but the overall structural quality just moderately suffered, as recognized after rather low significance of defect-related D-band. Our work has highlighted the correlation between the results of nanoindentation, electrical performance, and appearance of structural defects in graphene. Methodology: Graphene was grown on commercial 25 µm thick polycrystalline copper foils in an in-house built chemical vapour deposition (CVD) reactor. The foil was annealed, prior to the graphene deposition, at 1000 °C in Ar/H2 flow for 60 min, and then additionally exposed to the mixture of 10% CH4 (99.999%, Linde Gas) in Ar at 1000°C for 120 min. Then, the foil was cooled down in an Ar flow. Graphene was transferred onto 300 nm thick Si/ SiO2 substrate by using a wet chemical transferring process described in a publication by T.Kahro et al. The thin metal oxide films was deposited in a commercial PicosunTM R-200 Advanced ALD system. Findings, Conclusion & Significance: Large-area CVD-graphene the best way to prepare good quality graphene, being coated with thin film made by atomic layer deposition, which is widely used for preparing metal oxides for nanoelectronics devices, would be suitable for flexible electronics and components of nanodevices.